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制冷加熱循環(huán)裝置在制藥生物工業(yè)行業(yè)的應用

簡要描述:【無錫冠亞】制冷加熱循環(huán)裝置在制藥生物工業(yè)行業(yè)的應用,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-635
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-01-14
  • 訪  問  量:917
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天

<strong><strong><strong><strong>企業(yè)選擇TCU反應釜溫控系統(tǒng)需要注意哪些</strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

型號SUNDI-655WVSUNDI-675WVSUNDI-6A10WVSUNDI-6A15WVSUNDI-6A25WV
介質(zhì)溫度范圍-60℃~+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR)
控制系統(tǒng)前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器
溫控模式選擇物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇
溫差控制設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定
程序編輯可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟
通信協(xié)議MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口
外接入溫度反饋PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)
溫度反饋設備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度
導熱介質(zhì)溫控精度±0.5℃
反應物料溫控精度±1℃
加熱功率 kW5.57.5101525
制冷量 kW  AT300℃5.57.5101525
100℃5.57.5101525
20℃5.57.5101525
-20℃4.868.21225
-40℃2.33.14.87.818
-55℃0.750.91.52.86
流量壓力 max  L/min bar355060110150
222.52.52.5
循環(huán)泵冠亞磁力驅(qū)動泵
壓縮機法國泰康活塞壓縮機意大利都凌/卡萊爾/艾默生
膨脹閥丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥
蒸發(fā)器丹佛斯/高力板式換熱器
操作面板7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄
安全防護具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關(guān),過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。
密閉循環(huán)系統(tǒng)整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質(zhì)。
制冷劑R-404A/R23混合制冷劑
接口尺寸G3/4G1G1G1DN32 PN10
水冷型 W
溫度 20度
1800L/H
1.5bar~4bar
G3/4
2100L/H
1.5bar~4bar
G3/4
3000L/H
1.5bar~4bar
G1
4000L/H
1.5bar~4bar
G1 1/8
8.5m³/H
1.5bar~4bar
DN40
外形尺寸 cm55*100*17555*100*17570*100*17580*120*185100*150*185
重量kg265305340380980
電源 380V50HZ10kW14kW18kW26kW40kW

 <strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong><strong><strong>中試配套高低溫一體機的使用基本要求說明</strong></strong>

制冷加熱循環(huán)裝置在制藥生物工業(yè)行業(yè)的應用

制冷加熱循環(huán)裝置在制藥生物工業(yè)行業(yè)的應用

   制冷加熱循環(huán)裝置是一種制冷加熱控溫系統(tǒng),通常配套反應器、反應釜、蒸餾、萃取、恒溫等進行制冷加熱控溫,一般在制藥、生物、工業(yè)、化工、實驗室等行業(yè)進行應用。

  1、制藥行業(yè)中制冷加熱循環(huán)裝置的應用:

  制藥行業(yè)中涉及較多的化學反應部分,需要對反應釜反應器進行制冷加熱控溫,提供相應的冷源和熱源,現(xiàn)在基本采用全密閉的循環(huán)管路系統(tǒng),比傳統(tǒng)的開放式更加簡單,體積也比原先的傳統(tǒng)的小,運行比較穩(wěn)定,符合現(xiàn)在制藥行業(yè)的運用。

  2、工業(yè)中制冷加熱循環(huán)裝置的應用:

  制冷加熱循環(huán)裝置在工業(yè)中可以應用于干燥設置中需要外部溫度來實現(xiàn)干燥反應的狀態(tài),制冷加熱循環(huán)裝置可以協(xié)助其達到-120-300度,由于溫度段不同可以采用不同的介質(zhì)來進行加熱制冷。

  3、生物工程中制冷加熱循環(huán)裝置的應用:

  制冷加熱循環(huán)裝置可以應用于生物鐘蒸餾、結(jié)晶、蒸發(fā)以及提取和離子交換等反應器的冷熱源溫度控制,在這些反應中,生產(chǎn)的熱量和需要的溫度可以通過制冷加熱循環(huán)裝置來實現(xiàn)收集液體的溫度需求,達到一定的溫度需求。

  4、膠粘行業(yè)中制冷加熱循環(huán)裝置的應用:

在膠粘行業(yè)中,會發(fā)生很多材料的聚合反應,由此生產(chǎn)一定的熱量,制冷加熱循環(huán)裝置可以應對其中需要冷卻溫度,提高生產(chǎn)的效率,減少缺陷的發(fā)生。 

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